第291章 半导体提议，光刻厂！ (第8/24页)
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很难不支持。
王逸笑说：“有了国家机器出手，DUV光刻机估计五年左右就能实现国产突破。至于EUV光刻机，会费事一点，但也只是时间问题，早晚都会突破的！”
秦主任却没有这么乐观：“DUV光刻机已经投入巨资，开始研发了，五年内有希望。而EUV光刻机项目，却难度很大，不容乐观。不过，官方是将EUV光刻机和DUV光刻机，同步开始推进的！”
王逸明白了，两种光刻机是两代技术，或者说EUV光刻机是全新的技术。
所以没必要等几年后研发出DUV光刻机，再推进EUV光刻机研发，这样太慢了。
相反直接立项，两代产品，两代技术，一同研发！
如此魄力，王逸都很佩服。
索性道：“EUV光刻机的确困难，需要的上下游产业链太多，咱们差得很远。但换个思路，如果EUV光刻机不好做，做一个EUV光刻厂……会不会容易一点？”
“EUV光刻厂？”秦主任眼睛一亮：“你详细说一说。”
王逸略微思忖，刚想开口，却被秦主任直接打断：
